中國科學(xué)院青島生物能源與過程研究所多層膜結(jié)構(gòu)光電樣品制備設(shè)備招標(biāo)預(yù)告(原標(biāo)題: 多層膜結(jié)構(gòu)光電樣品制備設(shè)備)

A****樣品前處理及制備儀器

針對材料體系固有水氧敏感性與離子遷移特性，通過極限精度的原子層沉積技術(shù)實(shí)現(xiàn)界面鈍化層的亞原子級均勻覆蓋，從根本上抑制鹵素空位引發(fā)的載流子非輻射復(fù)合，滿足新一代高效率電池對開路電壓與填充因子的雙提升需求；磁控濺射工藝需在復(fù)雜曲率基板上構(gòu)筑兼具超高透光率與超低方阻的透明電極網(wǎng)絡(luò)，其能帶結(jié)構(gòu)需精確匹配光電活性層的載流子傳輸勢壘，消除傳統(tǒng)金屬電極導(dǎo)致的能級錯(cuò)位損耗；飛秒激光刻劃平臺(tái)必須平衡熱輸入控制與加工精度，在避免光電材料熱分解的前提下實(shí)現(xiàn)微米級絕緣溝槽的陡直形貌加工，確保串聯(lián)組件邊緣勢壘的電子學(xué)完整性；自進(jìn)化智能控制中樞需深度融合高密度傳感器陣列的多物理場監(jiān)測數(shù)據(jù)與量子效率譜、瞬態(tài)光電響應(yīng)等表征結(jié)果，構(gòu)建基于多場耦合仿真的載流子輸運(yùn)動(dòng)力學(xué)模型，同步反演界面復(fù)合機(jī)制與體相衰減路徑，最終形成“工藝參數(shù)-微觀結(jié)構(gòu)-服役性能”的全維度閉環(huán)優(yōu)化體系。 多層膜結(jié)構(gòu)光電樣品制備設(shè)備功能： 1）有機(jī)蒸發(fā)模塊：方形304不銹鋼腔室，腔體尺寸：600*600*600 mm；基片尺寸156*156 mm。前門采用全自動(dòng)控制（和手套箱集成時(shí)），后門采用手動(dòng)鉸鏈結(jié)構(gòu)，兩門均設(shè)有觀察窗。腔室預(yù)留有照明和膜厚儀等設(shè)備接口。分子泵（抽氣口徑 DN200）+超高真空金密密封法蘭接口；旋片泵+高真空氣聯(lián)動(dòng)插板閥。帶有旁抽系統(tǒng)，極限≤5×10-4Pa、從大氣抽至5×10-4Pa≤15min；有機(jī)水冷蒸發(fā)源共計(jì)6組，熱阻式。蒸發(fā)源采用相同的電極引入結(jié)構(gòu)，可以互換使用。配左右開啟擋板與隔板，用于材料蒸發(fā)。膜厚勻性：士5%。 2）金屬電子束模塊：方形304不銹鋼腔室，尺寸：600*600*600mm。前門采用全自動(dòng)控制（和手套箱集成時(shí)），后門采用手動(dòng)鉸鏈結(jié)構(gòu)，兩門均設(shè)有觀察窗。腔室預(yù)留有照明和膜厚儀等設(shè)備接口。分子泵（抽氣口徑 DN200）+超高真空金密密封法蘭接口；旋片泵+高真空氣聯(lián)動(dòng)插板閥。帶有旁抽系統(tǒng)、極限≤5×10-4Pa。 3）磁控濺射模塊，濺射不均勻性≤士5%。 4）ALD模塊：腔室：加熱器置于真空腔室外的水平流時(shí)間型 ALD。 反應(yīng)腔室：樣品臺(tái)可放下最大8英寸晶圓，配有2 套載板；反應(yīng)溫度：最高150°C，溫度控制精度士1°C；金屬源1路，可用于TDMASn、TMA 等源；配置高溫快速 ALD閥（響應(yīng)時(shí)間＜10ms）、手動(dòng)閥、50ml不銹鋼源瓶，源瓶及管路加熱溫度。